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p_OLED 공정/장비분야 경력사원 모집 (Sputter, CVD, Dry Etch,열처리)
회사소개 Display 제조
상세요강
1 Sputter
1. 직무 : 진공 증착 기술 전문가_Sputter
2. 수행업무
- 설비 이물 소스 도출 및 개선활동
- 금속 박막 공정 능력 개선 (금속 두께, 면저항)
3. Requirement
1) 필수조건
- Sputter공정/장비, 박막공정 (PVD법, CVD법), 금속배선공정 경력
- Thin Film Quality, Thickness/Resistivity Uniformity, Step Coverage 개선 활동
2) 우대조건
- 진공 분야에서 수행 경력상 기술 프로젝트(공정능력, 요소기술개발) 경험 보유
- Mobile 디스플레이 분야 경험 보유
- LTPS TFT, POT 경력 보유
- IGZO소자 정합 활동 보유
- 진공 설비 수율 향상 및 공정능력 개선 경험 보유
- Single Cathode Type 설비와 공정 경험
- 10년 이상 경력


2 CVD
1. 직무 : 진공 증착 기술 전문가_CVD
2. 수행업무
- 제품 Design 고려, 이물 소스 도출 및 증착장비 및 공정개선 활동
- 박막(무기막) 및 물성분석과 Data분석을 통한 실험계획 수립 및 개선
3. Requirement
1) 필수조건
- CVD 공정/장비, 박막장비/공정 경험자
- 박막분석 및 장비/공정의 영향인자 분석 및 실험계획 수립 활동
- 10년 이상 경력
2) 우대조건
- 박막 물성 분석과 소자 연계 분석 경험보유
- LCD, OLED 디스플레이 분야 공정기술 경험자
- Display 및 반도체 공정의 수율 향상 및 장비 가동률 개선 업무 경험자
- PECVD 장비기술 이해 및 설비운영 경험자
- 10년 이상 경력


3 Dry Etch
1. 직무 : Metal Etcher 기술 전문가
2. 수행업무
- 설비 이물 소스 도출 및 개선 활동
- ICP Mode의 Metal Dry Etcher의 Etch Unif. 개선
3. Requirement
1) 필수조건
- ICP Mode의 Metal Etcher장비의 Etch Rate 및 CD 산포 개선 이력
- Metal Etcher 장비의 이물 개선 및 부품의 표면 Coating 개선 이력
2) 우대조건
- ICP Mode의 Metal Dry Etcher의 Etch 부산물 제거력 향상을 위한 공정 조건 정립 경험자
- ICP Mode의 Antenna 조정에 따른 Etch 특성의 산포를 개선한 경험이 있는 인원
- 반도체 및 ICP Dry Etch 경력 5년 ~ 10년 이상
- 석사 우대



4 열처리
1. 직무 : 열처리 공정/장비 Engineer (반도체/디스플레이 분야)
2. 수행업무
- 열처리 공정 개발 및 평가
- 열처리 장비 불합리 개선 및 유지/보수를 위한 모니터링/관리
- 수율 확보를 위한 공정 개선 및 최적 생산성 유지
3. Requirement
1) 필수조건
- 반도체분야 Oxidation, Diffusion 공정 및 열처리 장비 경험자 (최소 3년)
- 디스플레이분야 열처리 공정/장비 경험자 (최소 3년)
- 전기/전자, 반도체 공학 분야의 전공을 이수한 자
2) 우대조건
- 석/박사 우대
- 열처리 장비 업무 유경험자

<지원자격 및 절차>
■ 학위: 학사 졸업 이상 혹은 동등 학력 소지자
■ 경력: 관련 업무 경력 4년 이상 (최소)
■ 근무조건
- 근무형태 : 정규직
- 처우 : 회사 내규에 따름
■ 서류전형 → 필기전형(인성검사) & 면접전형/채용검진 → 입사
■ 면접전형은 경우에 따라 1차 또는 2차 전형으로 진행될 수 있습니다.

<이력서 양식>
자유 양식
기타사항 학력:대졸이상, 외국어:무관
근무지:경기
담당자 담당컨설턴트: 김일섭 헤드헌터
연락처: 010-5578-1050 / 010
이메일: pascakim@hrcon.co.kr
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담당컨설턴트 김일섭 헤드헌터
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